高纯铜靶材5N5科研用
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AI AI 제품 소개
高纯铜靶材5N5科研用，铜含量≥99.995%，适用于半导体镀膜、科研实验等高精度领域。靶材纯度直接影响薄膜质量，5N5级别确保低杂质含量，提升工艺稳定性。建议采购前确认具体应用场景的纯度要求，不同工艺可能对杂质元素有特定限制。建议选择有资质供应商并提供材质证书，确保批次一致性。科研用量通常较小，可考虑多规格包装以降低成本。
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규격 매개변수
| 产地 | 其他 |
|---|---|
| 品名 | 其他 |
| 牌号 | 其他 |
| 铜含量≥ | 99.995 |
제품 상세
高纯铜靶材5N5科研用
品名：其他；牌号：其他；产地：其他；铜含量≥：99.995；起订量：1件；发货地：陵城区
2-1 适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。
2-2 应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。
3-1 材质：铜（Cu Target）。
3-2 纯度：99.99%，99.999%。
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高纯铜靶材5N5科研用
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